半導体株マップ
6728AI直撃

アルバック

前工程装置 › 成膜
前工程装置成膜装置真空装置
AI需要との関係:PVDを中心とした成膜装置メーカーとして半導体投資拡大が直接需要を押し上げるため

業界内ポジション

PVD(物理気相蒸着)を中心とした成膜装置・真空装置のメーカー。半導体の配線形成・バリアメタル成膜向けに加えFPD・太陽電池向けにも展開する。

基本財務データ

時価総額

48億円

PER

24.0倍

PBR

2.1倍

配当利回り

1.7%

売上高

25億円

営業利益

3億円

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本ページに掲載されている情報は、公開情報をもとに作成した参考情報です。投資助言ではありません。投資判断はご自身の責任で行ってください。

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